۲-۲ -آماده سازی سطح زیرالیه
در ابتدا نمونه ها به مدت ۱۲ دقیقه توسط استن و به صورت التراسونیک چربیگیری شدند و سپس با آب مقطر در دمای محیط شستشوو سپس توسط هوای گرم خشک شدند.
جهت اسیدشویی، نمونه ها به مدت ۲۰ ثانیه در اسید سولفوریک ۴ %اسید شویی شدند و آنها با آب مقطر شسته شده و سپس با دمش هوای گرم خشک شدند.
پس از اسید شویی و قبل از پوشش دهی، فعالسازی سطح صورت گرفت، عملیات فعال سازی سطح شامل غوطه وری نمونه ها درون محلولی حاوی یک گرم در لیتر فسفات تیتیانیم به مدت ۶۰ ثانیه بود
این ماده با ایجاد سوسپانسیونی از ذرات معلق در آب مقطر با قرار گیری در سطح نمونه محل های جوانه زنی کریستال های فسفاته رو افزایش میدهد و باعث ریزتر شدن کریستال های پوشش میگردد و در ادامه نمونه ها بعد از خروج از محلول فعال ساز و قبل از خشک شدن وارد حمام الکتروفسفاته کاری شدند.
۳-۲ -عملیات پوشش دهی
ترکیب شیمیایی و شرایط کاری جهت اعمال پوشش الکتروفسفاته در جدول ۱ ارائه شده است.
پوشش دهی توسط روش الکتروشیمیایی
کاتدی انجام شد و از دو آند فولاد زنگ نزن جهت تکمیل مدار استفاده گردید.
جشماتیکی از سل به کار رفته جهت اعمال پوشش در شکل ۱ نشان داده شده است.
۴-۲ -مشخصه یابی پوشش ایجاد شده
جهت بررسی ترکیب شیمیایی و مورفولوژی
پوششهای ایجاد شده و آنالیز نقطهای (EDAX )از میکروسکوپ الکترونی روبشی استفاده گردید.
جهت اندازه گیری ضخامت پوشش الکتروفسفاته
ایجاد شده از دستگاه Fisher مدل Mp30 استفاده شد.
جهت نیل به این مقصود، ضخامت ۷ نقطه از پوشش الکتروفسفاته ضخامت سنجی شد و سپس متوسط به عنوان ضخامت پوشش گزارش شد.
ارزیابی مقاومت به خوردگی پوشش ایجاد شده در محلول ۵/۳ درصد NaCl توسط روش پلایزاسیون پتانسیو دینامیک با استفاده از
دستگاه پتانسیواستات مدل G&EG صورت گرفت.
جهت انجام این آزمایش از سل سه الکترودی که در آن الکترود کاملا اشباع به عنوان الکترود مرجع و cm21 از سطح نمونه به عنوان الکترود کاری
در معرض محلول ۵/۳ %سدیم کلرید قرار گرفت.
از ورقه فولادی زنگنزن ۳۱۶ نیز به عنوان الکترود کمکی استفاده شد.
قبل از شروع آزمایش، نمونه ها به مدت ۱۵ دقیقه در محلول قرار گرفته و پس از آن آزمایشها انجام شده اند، منحنیهای پلاریزاسیون در دامنه
۳۰۰ -تا ۳۰۰ +میلی ولت نسبت به پتانسیل مدار باز با سرعت روبش اsec/11mv رسم گردیدند.
برای بدست آوردن پارامترهای سینیتکی و ترمودینامیکی منحنی های پلاریزاسیون از روش پلاریزاسیون خطی وجهت محاسبه میزان تخلخل نیز از روش الکتروشیمیایی استفاده گردید.
در این روش تخلخل پوششهای فسفاته با استفاده
از معادله ۱ محاسبه میگردد. که در آن p تخلخل پوشش بر حسب درصد میباشد. Rps مقاومت پلاریزاسیون زیرلایه، Rp مقاومت پلاریزاسیون زیرلایه پوشش داده شده میباشد.